历史涨停时间:
2025.07.03
2025.09.24
  • A2025.07.03
  • B2025.08.06
  • C2025.08.08
  • D2025.08.11
  • E2025.08.13
  • F2025.08.20
  • G2025.08.28
  • H2025.09.01
  • I2025.09.15
  • J2025.09.24

掩模版直写光刻+电解铜箔设备+复合集流体+固态电池
1、据2025年8月30日半年报,公司是国内电解铜箔设备龙头,直径3.6米阴极辊及生箔机已稳定产出3.5μm极薄锂电铜箔,单卷原箔收卷长度达102,000米刷新行业纪录。 2、据2024年12月31日互动易,公司“一步法干法”真空磁控溅射蒸发复合镀膜机可双面镀铜镀铝,复合集流体设备毛利率高于传统铜箔设备。 3、据2025年9月22日互动易,公司间接控股子公司洪镭光学已推出三款微纳直写光刻设备,聚焦PCB HDI/FPC、半导体玻璃基板TGV及先进封装掩模版,订单金额375万元尚未产生收入。 4、公司真空镀膜设备可用于固态电池产业链,正前瞻性布局相关应用。 (免责声明:本内容由AI技术搜集公开信息总结生成,仅供参考,不构成投资建议,以上市公司公告为准)